純水設(shè)備控制原理解析
反滲透系統(tǒng)( RO）控制
RO系統(tǒng)的啟動(dòng)、運(yùn)行、沖洗、停機(jī)備用等過程均可由PLC實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制。同時(shí)，RO系統(tǒng)還設(shè)置一塊就地儀表盤和一塊就地操作盤，在就地盤上可讀出RO有關(guān)工藝參數(shù)，如電導(dǎo)率、流量、pH值、壓力等；以及能在就地操作盤上啟停RO進(jìn)水高壓泵及相關(guān)的自動(dòng)閥門。對重要參數(shù)如流量、電導(dǎo)率、pH值、壓力等設(shè)有在線檢測儀表，并設(shè)定有超限報(bào)警功能。3.3.5反滲透（ RO）啟停保護(hù)
當(dāng)RO投入運(yùn)行時(shí)，為了防止高壓泵突然啟動(dòng)升壓，產(chǎn)生對RO膜元件的高壓沖擊破壞反滲透膜，在RO裝置的高壓泵出口至RO膜組件間設(shè)置一個(gè)漫開閥門，由可編程序控制器（PL）控制打開閥門，使反滲透膜元件逐漸升壓至一定的壓力。在RO停止使用時(shí)，應(yīng)用原水對RO膜組件自動(dòng)沖洗3～5min左右，以避免濃水中的高濃度鹽類在RO膜表面沉積結(jié)垢而影響膜的性能。3.3.6 EDI裝置的控制EDI裝置的啟動(dòng)、運(yùn)行、停機(jī)備用等過程均可由 PLC實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制，同時(shí)， EDI裝置還設(shè)置一塊就地儀表盤和操作盤。對 EDI系統(tǒng)的重要參數(shù)如電阻率、流量等設(shè)在線檢測儀表，并設(shè)定有超限報(bào)警功能；可在就地操作盤調(diào)節(jié)整流器電流、濃水泵及相關(guān)的自動(dòng)閥門。3.4控制系統(tǒng)配置
硬件
控制系統(tǒng)硬件組成包括1套可編程控制器（PLC）和1臺(tái)程控柜構(gòu)成的控制系統(tǒng)。PLC采用性能可靠、廣泛應(yīng)用于工業(yè)控制領(lǐng)域的產(chǎn)品。3.4.2軟件
我公司在大量實(shí)踐運(yùn)用的基礎(chǔ)上開發(fā)的控制軟件，能為系統(tǒng)的運(yùn)行和保護(hù)提供可靠的工作程序。
PLC應(yīng)用軟件：運(yùn)行于PLC，實(shí)現(xiàn)各種控制功能。（2）監(jiān)控軟件：基于WINDOWS9X／NT平臺(tái)，功能強(qiáng)、使用簡單、運(yùn)用可靠的軟件。作為人機(jī)界面，用于操作、調(diào)試人員監(jiān)視裝置運(yùn)行狀態(tài)、控制現(xiàn)場設(shè)備的接口。3.5儀表
現(xiàn)場儀包括溫度、壓力、液位、流量、在線分析儀表和控制閥等。分析儀表有電導(dǎo)率、pH表等檢測儀表3.5.2儀表選型現(xiàn)場儀表的選型原則是滿足工藝要求、質(zhì)量可靠。3.6電氣
供配電
超純水站用電設(shè)備電壓等級為380／220VAC。實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備設(shè)低壓配電柜即MCC柜，向超純水工藝系統(tǒng)動(dòng)力設(shè)備供電。3.6.2電氣設(shè)備控制電機(jī)采用自動(dòng)／手動(dòng)兩種操作方式。集控操作在PLC相統(tǒng)一進(jìn)行，控制由PLC實(shí)現(xiàn)?？刂剖疑衔粰C(jī)用于監(jiān)控電氣設(shè)備的運(yùn)行狀態(tài)、參數(shù)、電氣設(shè)備故障報(bào)警等。所有電動(dòng)機(jī)分均設(shè)有就地操作按鈕。3.6.3防雷與接地防雷：根據(jù)有關(guān)規(guī)程、規(guī)范，接入全廠避雷系統(tǒng)。接地：根據(jù)有關(guān)規(guī)程、規(guī)范、所有需要保護(hù)接地的電氣設(shè)備均可靠接入相應(yīng)的接地系統(tǒng)。主要包括配電裝置、PLC裝置、機(jī)電設(shè)備、控制盤柜等。純水設(shè)備，實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備，南通水處理設(shè)備，南通去離子水設(shè)備。醫(yī)院用水處理設(shè)備，醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。
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